众所同知，真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。那么，蒸发镀膜和溅射镀膜有什么区别呢?不少新手朋友有这样的疑问。下面我们就为大家做出的相关讲解。

　　真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，并直接沉淀在基片上形成薄膜，离子泥射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击使靶材中的原子或分子逸出来，从而沉淀到被镀工件的表面，形成所需要的薄膜。

　　溅射技术与真空蒸发技术有所不同，“溅射”是指荷能粒子轰击回体表面(靶)，使固体原子或分子从表面射出的现象，射出的粒子大多呈原子状态，常称为流射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子，离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速获得所需要动能，因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上，即溅射离子都来源于气体放电，不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同，直流二溅射利用的是直流辉光放电三溅射是利用热阴支持的辉光放电射频溅射是利用射频辉光放电，磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。