靶材厂家告诉你靶标的制作方法

　　靶材厂家告诉你靶材是电子信息产业中经常使用的一种材料。虽然它用途广泛，但普通人对这种材料知之甚少。许多人对目标的制作方法感到好奇?它是如何分类的?接下来，小编将介绍目标材料的生产方法和分类应用

　　靶材厂家告诉你靶标制作方法：

　　1.铸造方法

　　靶材厂家告诉你铸造方法是将合金原材料按一定的组成比熔化，然后将熔炼后得到的合金溶液倒入模具中形成铸锭，加工后形成靶材。铸造方法通常需要在真空中熔化和铸造。常用的铸造方法有真空感应熔炼、真空电弧熔炼和真空电子轰击熔炼。其优点是所制备的靶材杂质含量小，密度高，可大规模生产;缺点是当熔点和密度相差较大的两种或两种以上金属熔炼时，用常规熔炼方法很难制备成分均匀的合金靶材。靶材的制备需要低杂质含量和高纯度的材料。靶材的纯度会影响薄膜的均匀性。纯度越高，所制靶材的耐腐蚀性、电学和光学性能越好。然而，不同用途的靶材对纯度有不同的要求。例如，工业中使用的靶材对纯度的要求较低;然而，半导体、显示器等领域的目标材料对纯度有很高的要求。

　　2.粉末冶金

　　靶材厂家告诉你粉末冶金法是将具有一定组成比的合金原料熔化，然后将熔炼后获得的合金溶液铸成锭，压碎铸锭，静态成型粉碎粉末，然后在高温下烧结形成靶材。用这种方法制作的靶材具有成分均匀的优点;缺点是密度低，杂质含量高。常用的粉末冶金工业包括冷压、真空热压和热等静压。

　　靶材厂家告诉你材料的分类和应用

　　1.半导体相关目标：

　　电极和布线膜：铝靶、铜靶、金靶、银靶、钯靶、铂靶等。

　　储存电极膜：钼靶、钨靶、钛靶等。

　　粘附膜：钨靶、钛靶等。

　　电容器绝缘膜：锆钛酸铅靶材等。

　　2.磁记录目标：

　　垂直磁记录膜：钴铬合金靶材等。

　　硬盘薄膜：钴铬钽合金靶材、钴铬钽铂合金靶材等。

　　薄膜磁头：钴钽铬合金靶、钴铬锆合金靶等。

　　人造晶体薄膜：钴铂合金靶材、钴钯合金靶材等。

　　3.光记录目标：

　　相变光盘记录膜：碲化物靶材、硒化锑靶材、锗锑碲合金靶材、碲锗合金靶料等。

　　磁光盘记录膜：镝铁钴合金靶、铽镝铁合金靶、氧化镁靶、氮化硅靶等。

　　光盘反光膜：铝靶、铝钛合金靶、铝铬合金靶、金靶、金合金靶等。

　　光盘保护膜：氮化硅靶、氧化硅靶、硫化锌靶等。