靶材厂家介绍，镀膜靶材是溅射源，其通过磁控溅射、多弧离子镀或其它类型的涂层系统在适当的工艺条件下在基底上形成各种功能膜。简单来说，它就是被高速带电粒子轰击的靶材，用于高能激光武器，不一样功率密度、不一样输出波形、不同波长的激光与不一样目标相互作用时，会产生不一样的杀伤和破坏效果，例如，蒸发磁控溅射镀膜就是加热蒸发镀膜、铝膜等，通过改变不同的靶(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等)、不同膜系(如超硬、耐磨、防腐合金膜等)可以获得。

　　镀膜靶材制约着溅射薄膜的物理机械性能，影响镀膜质量，因此它的制备应满足什么要求?靶材厂家为你介绍!

　　1.纯度：靶材厂家介绍，需要杂质含量低，纯度高，它的纯度影响薄膜的均匀性。以纯al靶为例，纯度越高，溅射Al膜的耐蚀性和电学、光学性能越好，然而，不同的目标有不同的纯度需要。一般工业靶材的纯度要求不高，但半导体、显示器件等领域使用的靶材纯度需要非常严格。

　　2.杂质含量：固体中的杂质和孔隙中的O2和H2O是沉积薄膜的主要污染源。不一样的靶材对单个杂质含量的需求不同。

　　3.高密度：靶材厂家介绍，为了减少它里面的气孔，提高薄膜的性能，一般要靶材具有高密度。它的密度不仅影响沉积速率、溅射薄膜颗粒的密度和放电现象，还影响溅射薄膜的电学和光学性质。密度越好，溅射膜颗粒密度越低，放电现象越弱。高密度靶具有良好的导电性和导热性、高强度等优点，用这种靶材镀膜，溅射功率低，成膜速率高，薄膜不易开裂，靶材使用寿命长，溅射薄膜电阻率低，透过率高，它的密度主要取决于制备工艺。一般来说，铸造靶材的密度较高，而烧结靶材的密度相对较低，因此提高靶材的密度是烧结靶材的关键技术之一。

　　4.靶材厂家介绍，均匀的成分和微观结构，均匀的成分是涂层质量稳定的重要保证，特别是对于合金靶材和多相结构的混合靶材。比如ITO，为了保证薄膜质量，要求它中In2O3-SnO2的成分均匀，二者为93:7或91:9(分子比)。

　　5.它的晶粒尺寸越小，溅射薄膜的厚度分布越均匀，溅射速率越快。

　　各种类型的溅射薄膜材料在半导体集成电路(VLSI)、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代以来，溅射靶材及溅射技术的同步发展，满足了各种新型电子元器件发展的需求。例如，在半导体集成电路制造过程中，以电阻率较低的铜导体薄膜代替铝膜布线:在平面显示器产业中，各种显示技术(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步发展，有的已经用于电脑及计算机的显示器制造;在信息存储产业中，磁性存储器的存储容量不断增加，新的磁光记录材料不断推陈出新这些都对所需溅射靶材的质量提出了越来越高的要求，需求数量也逐年增加。