镀膜靶材上的薄膜是一种具有特殊的物质文化形态。在厚度对于这个社会特定方向上尺寸很小，是一个企业微观可测的量，而且通过薄膜厚度由于工作表面和界面的存在，使物质连续性发生发展终端，使得薄膜材料与靶材材料产生了许多不同的独特产品性能，而靶材主要是可以利用磁控溅射技术进行镀膜的，下面我们来看下，铬铝靶—简析生产靶材时溅射镀膜的原理及技术特点。
    一、铬铝靶—溅射涂层的原理
    溅射镀膜技术是用离子轰击靶表面，靶原子被击出的现象称为溅射。溅射产生的原子沉积在衬底表面，形成称为溅射涂层的薄膜，飞到待镀衬底表面沉积薄膜。
    二、铬铝靶—溅射镀层的工艺特点
    1、铬铝靶—沉积速度快
    高速磁控溅射电极与传统的两级溅射电极的不同之处在于，在靶材下方设置了磁铁，从而在靶材表面产生一个封闭的不均匀磁场。电子所受的罗仑兹力向着不均匀磁场的中间，因为聚焦感化，电子的逃逸少，不均匀磁场沿着靶外貌一周，不均匀磁场中捕集的二次电子与气体份子产生屡次频频碰撞，提高了气体份子的高化率。
    2、铬铝靶—基板温度低
    高速磁控溅射，也称作低温溅射。其理由是通过这种控制装置利用了一种相互之间垂直的电磁场空间中的放电。靶表面可以产生的二次利用电子，在相互.垂直的电磁场作用下，被束缚在靶表面附近，沿着跑道做圆滚线运动、和气体分子反复发生碰撞，使气体分子电离。同时我国电子产品本身渐失去所带的能量。
    3、铬铝靶—膜结构范围广
    从气相沉积，如真空蒸发和喷射涂层，和从通常的变薄的大块固体中获得的薄膜结构之间有相当大的差异。一般的固体属于基本相同的结构，而薄膜与此不同，属于非均匀结构。通过扫描电镜详细地观察到了柱状植物的生长模式。薄膜的柱状生长是由在基底表面上的原始凸起和在基底上生长的突起的几何阴影引起的。
    4、铬铝靶—组织成分均匀

    化合物、混合物、合金等难以通过真空沉积来沉积，因为各个组分的蒸气压不同或因为它们在加热时分解。从靶表面层的原子逐层移动到衬底的意义上说，溅射镀膜方法是制备薄膜的更好的技术。