在电子元器件的制造中，硅铝靶是一个非常重要的部件，需求量很大。那么目标制备的要求是什么呢?它的选择原则是什么?下面十分小编就带大家了解一下硅铝靶地准备要求和选择原则。

　　一、硅铝靶制备要求

　　1、纯

　　目标材料的制备要求杂质含量低，纯度高。硅铝靶的纯度会影响薄膜的均匀性。纯度越高，所制备的材料的耐腐蚀性能、电学性能和光学性能越好。但不同用途的靶材纯度要求也不同，比如在工业使用中对靶材纯度要求不是太高;但半导体、显示等领域的靶材料纯度相对较高。

　　2、高密度

　　硅铝靶材料一般要求具有较高的密度，这样可以减少靶材料中的孔隙率，提高薄膜的性能。此外，靶密度不仅会影响溅射膜的沉积速度和颗粒密度，还会影响靶溅射膜的电学和光学性能。

　　硅铝靶的密度越好，其导电性和导热性就越好，这样的靶材用溅射功率小，成膜速度更快，制成的薄膜不易开裂，可以延长靶材的使用时间。

　　3、均匀组成和结构

　　硅铝靶成分的均匀性会影响涂层的质量，特别是具有多相组织的合金靶材和混合靶材。

　　4、晶粒尺寸

　　硅铝靶的晶粒尺寸也影响靶的性能。靶材的晶粒尺寸越小，溅射涂层的厚度分布越均匀，溅射速度越快。

　　二、硅铝靶的选择原则

　　1、目标涂料成型后应具有良好的机械强度和化学稳定性。

　　2、目标材料需要选择与基体结合力好的薄膜材料，并与基体固定牢固。只有在溅射一层底膜后，才能制备所需的模具。

　　3、作为反映溅射膜的膜材料需要能够通过反应气体的收集容易地生成复合膜。

　　4、在满足薄膜性能要求的前提下，靶材与基体的热膨胀系数差越小越好，从而减少溅射薄膜热应力的影响。

　　5、根据膜的用途和性能要求不同，靶材的选择要求也不同，靶材的选择需要满足纯度、杂质含量、组分均匀性、加工精度等要求。

　　以上就是对硅铝靶材料的制备要求和选择原则的全部介绍。制备中对靶材料的要求越高，所生产的硅铝靶材料性能越好，越能满足产品的需求。硅铝靶有限公司生产钼及钼合金靶材、铜靶材、钛靶材及钨靶材等靶材，如有相关需求，欢迎来电咨询。